分析测试技术交流会议——ICP、红外光谱技术；无掩膜纳米光刻机技术

技术交流会议1——ICP、红外光谱技术交流会

一、会议时间：

周一（3.30）下午13:30-14：30

二、会议地点：

新实验楼二期 分析测试中心四楼会议室

三、交流内容

1.ICP、红外光谱仪器介绍及分析技术；

2.典型科研案例分享与现场技术答疑。

技术交流会议2——无掩膜纳米光刻机技术交流会

一、会议时间：

周一（3.30）下午14:30-15：30

二、会议地点：

新实验楼二期 分析测试中心四楼会议室

三、交流内容

1.无掩膜纳米光刻机技术交流会仪器介绍及分析技术；

2.典型科研案例分享与现场技术答疑。

欢迎感兴趣的老师参加！

                   分析测试中心               

                   2026年3月29日